常溫電(diàn)鍍鎳RT-Ni是專門未滾鍍型電(diàn)鍍專門涉及的低鎳工藝體(tǐ)系，除了能(néng)在較高的電(diàn)流密度下操作(zuò)外，常溫條件下能(néng)夠達到優良的耐焊性鍍層，且鍍液方便管理(lǐ)。

可(kě)有效抑制鐵氧體(tǐ)材料（電(diàn)感、磁芯）電(diàn)鍍擴撒所設計的産品，且不傷害素材

在電(diàn)鍍加工小(xiǎo)型化的被動組件時，會面臨必須嚴肅對待的問題——電(diàn)鍍過程中的 ( 鋼珠 )聚結和 ( 産品 ) 粘片以及離心鍍泡沫過多(duō)産生漏鍍現象。粘片和漏鍍的比率與工件的尺寸和外型相關。越小(xiǎo)尺寸和越扁平的工件，粘片和漏鍍的比率越高，這導緻産品質(zhì)量下降和應用(yòng)面縮小(xiǎo)。低泡型中性純錫工藝在接近中性的鍍液中影響錫離子的配位，從而解決小(xiǎo)工件的粘片現象, 而低泡型專門為(wèi)小(xiǎo)尺寸工件的滾鍍應用(yòng)設計的，能(néng)在非常寬廣的電(diàn)流密度範圍内獲得平滑均勻的半光澤純錫鍍層。